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CRF plasma 等離子清洗機

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現在,有多種不同的等離子清洗機,我們該如何選擇?

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       誠峰crf等離子清洗機分為空氣清洗機和真空清洗機兩個大類。這篇文章關鍵講解真空等離子清洗機的機理。比如在打印、粘合前處理等,我們可以使用大氣等離子清洗機,因為大氣等離子清洗機可以線上清理。
       等離子清洗機是借助低溫等離子體形成非均衡電子器件、反應離子和羥基自由基的能力。高能量基團在等離子體中轟擊表面,引起濺射、熱蒸發或光降解。等離子清洗機是借助等離子體中各種高能量材質的活化,對物體表面吸附的污垢進行徹底的剝離。現有的等離子清洗機關鍵劃分為兩個大類,1種是大氣等離子清洗機,1種是真空等離子清洗機。

      大氣等離子清洗機關鍵由等離子發生器、輸氣管、等離子噴嘴等組成。由等離子體發生器形成的高壓高頻能量在噴嘴管內激活并控制輝光放電形成低溫等離子體。電漿通過壓縮空氣射入工件的表面。等離子體與被處理物體表面接觸時,其物體就會發生變化。清洗后的表面含有碳化氫污染物,油類及輔助劑等都被去除掉。它們可促進多種涂層材料的結合,優化其在粘結和涂料應用中的應用。應用等離子體處理表面,在同樣效果下,可獲得非常薄的高壓涂層表面,這有利于粘接、涂覆和印刷。無需機械或化學處理等其它強有力的部分,以提高粘合性能。
       而真空等離子清洗機是汽體分子在真空、放電等特殊環境中形成的材質。等離子體清洗/腐蝕裝置被放置在一個密封的容器內,用于形成等離子體。在等離子刻蝕、等離子清洗、聚四氟乙烯(PTFE)和聚四氟乙烯混合物的腐蝕、塑料、玻璃和陶瓷等表面活化劑和清洗。等離子體在磁場作用下碰撞形成。同時,輝光也會出現。電漿在電磁場中空間運動,轟擊待處理物體表面,清理油、表面氧化層、灰質、有機物及其它化學物質,以達到表面處理、清潔及腐蝕的效果。采用等離子體處理工藝可實現選擇性表面改性。
       等離子清洗機是由真空發生系統、電子控制系統、等離子發生器、真空系統、機械等部件組成。可根據用戶需要定制真空系統及真空系統。使用數控技術簡單,自動化程度高。使用高精度的控制裝置,時間精確控制,正確的等離子清洗不會對表面造成損傷,從而保證表面質量。因為清洗是在真空條件下進行的,所以不會對環境造成污染,對表面沒有二次污染。

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