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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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利用電漿清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)除去孔內(nèi)的灰塵和微蝕刻

利用電漿清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)除去孔內(nèi)的灰塵和微蝕刻:
       電漿清洗機(jī)從二十世紀(jì)初開始。伴隨著高科技產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展,它的應(yīng)用日益廣泛,目前在很多高科技領(lǐng)域都處于核心位置,電漿清洗機(jī)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明的影響最為顯著,首推了電子工業(yè),特別是半導(dǎo)體光電行業(yè)。電漿清洗機(jī)具有成本低、勞動(dòng)量小、工作效率高等優(yōu)點(diǎn),是1種新型的電漿清洗機(jī)方式。

電漿清洗機(jī)

       我們都知道,太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)對(duì)清潔生產(chǎn)技術(shù)要求很高。太陽(yáng)極硅片材即使無(wú)電子級(jí)要求,但純度也非常高,等離子清洗技術(shù)誕生后,在切片等工序中,為了清洗硅晶片和多余雜質(zhì),電漿清洗機(jī)變成1種常用的清洗方式。在綜合了等離子物理、等離子化學(xué)和氣-固界面化學(xué)反應(yīng),有效去除表面污漬和附著力。
       電漿清洗機(jī)技術(shù)應(yīng)用于各種電子零部件的制造中,沒(méi)有電漿清洗機(jī)技術(shù),就沒(méi)有現(xiàn)在這樣發(fā)達(dá)的電子、信息、通信行業(yè)。另外,等離子清洗技術(shù)還可以應(yīng)用在光電、航空、聚合物等行業(yè),也可以用在光學(xué)元件上鍍,通過(guò)電漿清洗機(jī)工藝技術(shù)處理過(guò)后,可以延長(zhǎng)模具或刀具壽命,增強(qiáng)耐磨層、提升復(fù)合材料、纖維織布或內(nèi)含鏡片的表面附著力等,以上領(lǐng)域在生產(chǎn)過(guò)程中,會(huì)遇到粘接不牢固等問(wèn)題,都需要電漿清洗機(jī)的進(jìn)步才能實(shí)現(xiàn)。電漿清洗機(jī)具有工藝簡(jiǎn)單、節(jié)能、節(jié)省材料,降低了材料需求的特點(diǎn)。它是通過(guò)等離子轟擊物體表面而實(shí)現(xiàn)PBC去污的。利用電漿清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)除去孔內(nèi)的灰塵和腐蝕,從而除去鉆孔中的絕緣,最終提高產(chǎn)品質(zhì)量。

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