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CRF plasma 等離子清洗機

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六大因素決定等離子設備的清洗效用

        等離子設備主要是利用汽體電離生成等離子,這其中帶有電子、離子、官能團和紫外線等高能成分,對材料表面起到(活)化目的。舉例來說,電子質量小、移動速度快,能夠先一步到達材料表面并使其帶上負電荷,同時對材料表面生成沖擊目的,能促使在表面上被吸附的汽體分子解吸或分解,也有利于引發化學反應;材料表面帶負電荷時,帶正電荷的離子會加速向其沖擊,濺射目的會干擾表面附著的粒子性成分除掉;等離子中官能團的存在對除污目的很重要,因為官能團容易與物品表面發生化學連鎖反應,生成新的官能團或進一步分解,分解為揮發性小分子;而紫外線具有極強的光能和穿透能力,在材料表面利用數微米深度目的,因而使表面附著物質的分子斷裂分解。

等離子設備

(1)電離氣壓:相對于低壓等離子,電離氣壓增高,等離子密度升高,電子溫度(降)低。等離子設備的除污功能與密度和電子溫度有關。如果密度越大,清洗速度越快,電子溫度越高,除污功能越好。所以,低壓等離子設備除污工序的選擇是很重要的。
(2)蒸汽的種類:被清理對象的基材及其表面污染物具有多樣性,但蒸汽電離引起的等離子的污染速度和污染功能大不相同。因此,應選擇等離子工作蒸汽,如氧等離子設備處理表面的油污,并選擇H2、Ar混合氣體等離子等離子去除氧化層。
(3)電離功率:增強電離功率,增加等離子密度和活性顆粒能量,因而增強去污漬功能。舉例來說,氧氣等離子設備的密度與電離功率密切相關。
(4)接觸時間:待除污材料在等離子設備中的接觸時間對除污功能和等離子工作效率有重要干擾。較長的接觸時間,除污功能相對較好,但工作效率較低。而且,過長時間的除污可能會損壞材料的表面。
(5)傳動速度:相對于大氣等離子設備除污工序,在清理大型的物品的時候會涉及連續傳動問題。所以待除污物品和電極的相對運動越慢,清理功能就越好,但是過慢一方面會干擾工作效率,另一方面會干擾材料表面損傷,因而干擾清理時間延長。
(6)其它:等離子設備除污工序中的汽體分配、氣體流量、電極的設定等主要參數也會干擾除污功能。所以要根據實際情況和除污要求,設定具體、合適的工序主要參數。
       以上就是小編整理的六大決定等離子設備的清洗效用因素,大家有什么疑問都可以關注CRF(誠峰智造官網)。

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