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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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led用到等離子設(shè)備的工藝一般是清洗支架后鍍膜

led用到等離子設(shè)備的工藝一般是清洗支架后鍍膜:
       通常Led行業(yè)半導(dǎo)體封裝前的工藝必須要對支架開展處理,完了開展鍍膜工藝。這2個(gè)工藝流程都是必不可少的;手機(jī)3C類的電子配件就更多了,如手機(jī)里的很多配件都要用等離子設(shè)備清洗后才可以改善表面性能,尤其是對手機(jī)殼的密封性和線路板的清潔度。
       印刷前手機(jī)殼表面要清洗,手機(jī)玻璃板要粘接鍍膜,包括手機(jī)模組,中框都要用到等離子設(shè)備清洗。傳統(tǒng)的辦法是使用化學(xué)藥劑,不過這種傳統(tǒng)的辦法好處沒有,壞處到是有很多,高成本、污染大、效率還很低,相比之下,等離子設(shè)備處理的出現(xiàn)實(shí)現(xiàn)成本低,效率高,而且基本沒有污染,可以說等離子改變了整個(gè)手機(jī)制造業(yè)。

等離子設(shè)備

       采用等離子設(shè)備表面清洗工藝,可除去外殼注塑成型后殘余的油污,使塑料外殼表面更具活化作用,改善外殼印花、噴漆等粘結(jié)效果,使外殼涂層與基材緊密聯(lián)系,涂膜效果均勻,外觀光亮,耐磨性能大大提高。
        等離子設(shè)備處理其離子是電中性的,具備良好的導(dǎo)電率,但是能夠中和表面靜電防粉塵作用,清洗時(shí)也不會對表面造成二次改變。在現(xiàn)階段行業(yè)內(nèi)很理想的材料表面解決方法。通常情況下,等離子設(shè)備對材料開展表面改性能夠劃分為化學(xué)改性和物理改性。化學(xué)方法是指酸洗、堿洗、過氧化物或臭氧處理處理材料表面的方法。物理改性是指等離子體設(shè)備表面清潔、光輻射處理、火焰處理、力化學(xué)處理、涂層處理和表面改性劑的添加。


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