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CRF plasma 等離子清洗機

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介質阻擋充放電炭材料對真空等離子清洗機表面改性的應用

介質阻擋充放電炭材料對真空等離子清洗機表面改性的應用:
       等離子體是物質在高溫或特殊激發(fā)條件下產生的一種物質狀態(tài),是除固體、液體和氣體之外的物質存在的第四種狀態(tài)。電漿處理設備按照電漿溫度的不同分為高、低溫等離子體。高溫度等離子體,像太陽,是控制熱核聚變的等離子體。利用低溫等離子體,等離子體可分為熱、冷、高溫等離子體、低壓電弧放電、介質阻擋充放電、電暈放電、電暈放電、介質阻擋充放電和等離子體。

真空等離子清洗機

       根據氣體壓力的不同,真空等離子清洗機可以分為低壓、低溫等離子體(如:電弧放電、微波充放電等離子體)和常壓低溫等離子體(例如:電暈、DBD等)。按頻率又可分為直流充放電、高頻放電、微波充放電等離子體等。
       采用真空等離子清洗機進行表面處理,不僅可以改變炭材料的表面化學特性,而且還可以控制界面物性,從而使其在碳材料表面處理中具有很好的應用前景。DBD是兼有電弧放電、大容量勻稱性充放電、高氣壓充放電等特性,能在高壓、寬頻范圍內工作,是一種典型的非平衡交流氣體充放電。
       能在大氣壓下產生大體積、高能量密度、低溫等離子體,使其在低溫條件下能不用真空處理,具有處理光、熱、聲、電等物理過程和化學過程的能力,易于實現大規(guī)模、連續(xù)的工業(yè)運行。


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