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CRF plasma 等離子清洗機

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plasma等離子處理系統(tǒng)-如何去掉焊層表層的雜質和金屬氧化物

       小編今天給大家講述一款在設備清洗行業(yè)常見的系統(tǒng),它叫plasma等離子處理系統(tǒng),接下來從下面四大板塊闡述它是如何去掉焊層表層的雜質和金屬氧化物?
一、金屬鍵合前的等離子清洗
       采用plasma等離子處理系統(tǒng)技術,可有(效)去掉焊層表層的雜質和金屬氧化物,提供干凈的焊接表層,提高金屬粘接后期的接合強度和接合強度。

plasma等離子處理系統(tǒng)

二、塑封前的等離子清洗
        plasma等離子處理系統(tǒng)清洗和(活)化能夠除掉設備表層各種(納)米級污染物的殘留,改善表層能量,保證塑料密封和基材的緊密結合,減少分層等不良后果。
三、底部填充前的等離子清洗:
       利用plasma等離子處理系統(tǒng)清洗,能夠除掉焊層表層的外來污染物和金屬氧化物,提供干凈的焊接表層,改善后期金屬結合工藝的良性和結合強度。

plasma等離子處理系統(tǒng)

四、光刻膠的除掉:
       plasma等離子處理系統(tǒng)除掉光刻膠是一種常見的方式,利用等離子處理能夠除掉(顯)影(后)孔底的殘膠,并對洞孔的外壁進行修飾,故而改善了后期的工藝合格率。另外,濕法脫膠后,用等離子體除掉(納)米光刻膠上殘留的殘留物,能夠有效改善后期處理的合格率。
plasma等離子處理系統(tǒng)設備特點:
A、13.56MHz射頻電源與自動匹配系統(tǒng),具有優(yōu)異的穩(wěn)定性與可重復性;
B、靈活的電極結構設置與優(yōu)化的氣體饋入、分布方案,確保大批量處理的均勻性;
C、精準(安)全的反應源供應系統(tǒng),可滿足多種工藝需求;
D、PLC與工控機可提供穩(wěn)定的過程控制,顯示屏的數(shù)據(jù)實時在線顯示或傳輸;
E、系統(tǒng)穩(wěn)定可靠,易于保養(yǎng)與維護。
        CRF plasma等離子處理系統(tǒng)是誠峰智造比較熱(銷)的設備,不僅成本低,而且不用怎么維護,歡迎朋友們咨詢了解。

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