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CRF plasma 等離子清洗機

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陶瓷封裝材料方面等離子表面處理的應用

陶瓷封裝材料方面等離子表面處理的應用:
       等離子體在國外被稱為plasma,由于它的正負電荷一直對等的,所以它被稱為等離子體,因為它是由正離子體、負離子體、自由電荷等帶電粒子與不帶電的中性粒子構成的。
一、plasma容易清洗,方便無殘留
        等離子表面處理的特點是能夠解決金屬、半導體、氧化物、有機物和大多數復合材料,不管處理對象的基材類型如何。它只需很低的氣體流量,就能清潔整體、局部和復雜的結構。在等離子體清洗環(huán)節(jié)中,未使用任何化學劑,因而幾乎無污染物質,有利于環(huán)保。此外,其生產成本低,清洗均勻性好,重復性好,可控性好,容易實現批量生產。
      在陶瓷封裝作業(yè)中,等離子體清洗工藝技術挑選取決于后續(xù)工藝對材料表面的標準、材料表面的原始特性、化學成分和表面污染物的性質。

等離子表面處理

二、等離子表面處理優(yōu)化引線鍵合
       在陶瓷封裝環(huán)節(jié)中,基板、底座和芯片之間有大量的引線連接,引線連接仍然是實現芯片焊盤與外引線連接的重要途徑。
       低壓等離子體清洗技術是一種有效且低成本的清洗方法,能有效去除氟化物、鎳氫氧化物、有機溶劑殘留物、環(huán)氧樹脂溢出物、材料氧化層等基材表面可能存在的污染物質。等離子體清洗后再鍵合,會顯著提高鍵合強度和鍵合引線拉力的均勻性,對提高引線鍵合強度有很大作用。
三、等離子表面處理陶瓷封裝外殼
       如果管帽存放時間長,表面會有跡象,可能會有污染。首先清洗管帽的等離子體,去除污染,然后封帽,可以顯著提高封帽的通過率。陶瓷封裝通常采用金屬漿料印刷線作為鍵合區(qū)和蓋板密封區(qū)。Ni在這些材料的表面電鍍、在Au之前,用等離子體清洗,去除有機物污染,提高鍍層質量。
四、優(yōu)化處理高密度陶瓷封裝外殼漲金問題
       高密度陶瓷封裝外殼的增加與裝配和釬焊環(huán)節(jié)中引入的異質污染密切相關。這些污染可能是有機物質或石墨污染,C含量越高,去除難度越大。涂裝前,先200°c下對陶瓷零件進行5~10分鐘的退火處理,以便在裝架釬焊環(huán)節(jié)中吸附或氧化瓷器零件帶來的污染物質,使污染物質在后續(xù)的化學清洗環(huán)節(jié)中更容易去除。
       退火后,增加O2和Ar氛圍的等離子體清洗,利用O2的氧化性對污染物質進行物理轟擊和進一步化學氧化,然后利用Ar的大原子結構特性對污染物質和產生的氧化物進行物理轟擊,使陶瓷零件表面更加干凈。

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